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光刻胶研究框架页

来源:框架 时间:2022/7/6
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本文来自方正证券研究所年1月25日发布的报告《光刻胶研究框架2.0:研究上游单体、树脂、光酸、光引发剂》,欲了解具体内容,请阅读报告原文,陈杭S8ina联系人:李萌谭珺本文是《光刻胶:研究框架》的续篇主要回答市场的四大预期差:1、光刻胶的上游材料(单体、树脂、光引发剂、溶剂)构成了核心壁垒,领先地位的是华懋(徐州博康)2、国产高端光刻胶(ArF、电子束、KrF)的进度,处于领先地位的是华懋(徐州博康),科华和晶瑞在细分亦有突破。3、光刻胶的市场空间除了胶本身,还要加上难度更高的上游原材料和其他试剂,总体市场空间会远大于胶。4、光刻胶的壁垒其实来自于对化学/材料学分子式级别的理解,和时间沉淀下来的knowhow,我们更推荐具备“道”和“术”底层能力,具备材料平台级公司潜力的华懋(博康化学)、晶瑞。

前期光刻胶专栏报告中,我们详细讲述了光刻胶分类、下游应用、国内外竞争格局及国内光刻胶企业详解。基于地缘政治的压力下,光刻胶上游材料产业链的自主可控的重要性更加凸显,且目前市场上没有介绍光刻胶上游原材料的系统报告。

因此我们推出光刻胶系列2.0报告,在这篇报告中,我们主要追溯光刻胶上游原材料,包括单体、树脂、光引发剂、溶剂等,解析目前半导体光刻胶主流原材料,研究其行业壁垒,并分析目前市场竞争格局。

投资策略:目前国内光刻胶企业,正逐渐突破“从0到1”的验证关键阶段,选股策略上我们建议

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