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光刻胶研究框架页重磅

来源:框架 时间:2022/4/22
本文来自方正证券研究所年5月27日发布的报告《光刻胶研究框架》,欲了解具体内容,请阅读报告原文,陈杭S8ina

联系人:李萌1591589。

页·研究框架·系列链接:

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光刻胶是IC制造的核心耗材,其质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素,属于高技术壁垒材料,需要长期的技术积累,约占IC制造材料总成本的5%。

光刻胶市场基本被国外巨头垄断。日本合成橡胶、东京应化、信越化学等五大光刻胶厂商占据全球约87%的市场份额,尤其是在高端的半导体光刻胶市场中国更是仅占极少的份额,国产化率不足5%。

受福岛地震影响,日本信越化学KrF光刻胶产能不足导致中国大陆多家晶圆厂KrF光刻胶供应紧张,部分中小晶圆厂KrF光刻胶甚至出现了断供,多家晶圆厂在加速验证导入本土KrF光刻胶。当前国产替代已成为业内共识,我们认为伴随KrF光刻胶、ArF光刻胶研发完毕顺利完成客户验证后,国产光刻胶将真正进入国产替代的高峰期。

方正科技电子团队

陈杭

方正证券研究所

科技电子首席分析师

陈杭/ForBetterChina:北京大学硕士,电子首席科技首席。

吴文吉/:新加坡国立大学硕士,覆盖功率半导体,消费电子,硅片。

陶胤至/:北京大学电子与通信工程硕士,专注于面板、LED、元器件、半导体板块研究。

丛培超/:大连理工电子本硕,7年实业经验,其中美国高通3年,手机厂商4年,覆盖芯片设计领域。

李萌/1591589:华东师范大学金融硕士,年加入方正证券,主攻半导体封装测试、存储芯片、EDA软件、光刻机等领域。重点覆盖长电科技、小米集团、兆易创新等公司。

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